Effect of Al2O3 Passivation Layer and Cu Electrodes on High Mobility of Amorphous IZO TFT

发表于 1 小时前

期刊：IEEE Journal of the Electron Devices Society

文献作者：Shiben Hu; Junbiao Peng; Honglong Ning; Kuankuan Lu; Zhiqiang Fang; Ruiqiang Tao; Rihui Yao; Jianhua Zou; Miao Xu; Lei Wang

出版日期：2018--

DOI号：10.1109/jeds.2018.2820003

下载链接：https://ieeexplore.ieee.org/stampPDF/getPDF.jsp?arnumber=8326485

文献链接：https://doi.org/10.1109/jeds.2018.2820003

当前文献来源于 Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)。

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