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[IEEE] Design and Implementation of Remote Plasma Sources for Semiconductor Chamber Cleaning

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LLL_ 发表于 7 天前 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊：2020 IEEE Energy Conversion Congress and Exposition (ECCE)

文献作者：T. F. Wu; L. C. Yu; A. Kumari; R. Z. Hung; P. J. Chen

出版日期：2020-10-11

DOI号：10.1109/ecce44975.2020.9235422

下载链接：https://ieeexplore.ieee.org/stampPDF/getPDF.jsp?arnumber=9235422

文献链接：https://doi.org/10.1109/ecce44975.2020.9235422

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peter_soso 高级会员
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peter_soso 发表于 7 天前 | 显示全部楼层

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