Towards high NA patterning readiness: materials, processes and etch transfer for P24 Line Space

发表于 4 天前

期刊：International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2021

文献作者：Ndeye Arame Thiam; Jara Garcia Santaclara; Joern-Holger Franke; Filip Schleicher; Romuald Blanc; Philippe bezard; Alain Moussa; Patrick Wong; Eric Hendrickx; Mark Maslow

出版日期：2021-10-19

DOI号：10.1117/12.2601839

文献链接：https://doi.org/10.1117/12.2601839

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