[Elsevier/Sciencedirect] Low temperature silicon nitride grown by very high frequency (VHF, 162MHz) plasma enhanced atomic layer deposition with floating multi-tile electrode

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bobobibi 发表于 2026-7-13 11:53:49 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊:Surfaces and Interfaces

文献作者:You Jin Ji; Hae In Kim; Ki Hyun Kim; Ji Eun Kang; Doo San Kim; Ki Seok Kim; A.R. Ellingboe; Dong Woo Kim; Geun Young Yeom

出版日期:2022-10-

DOI号:10.1016/j.surfin.2022.102219

下载链接:https://www.sciencedirect.com/sc ... 468023022004862/pdf

文献链接:https://doi.org/10.1016/j.surfin.2022.102219

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figooooooo 发表于 2026-7-13 11:53:50 | 显示全部楼层

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