[SPIE] Enabling nanoimprint simulator for quality verification: process-design co-optimization toward high-volume manufacturing

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Yert 发表于 2026-7-24 16:56:15 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊:Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology

文献作者:Junichi Seki; Yuichiro Oguchi; Naoki Kiyohara; Koshiro Suzuki; Kohei Nagane; Shintaro Narioka; Takahiro Nakayama; Yoshihiro Shiode; Sentaro Aihara; Toshiya Asano

出版日期:2022-1-4

DOI号:10.1117/1.jmm.21.1.011005

下载链接:https://www.spiedigitallibrary.o ... 2F1.JMM.21.1.011005

文献链接:https://doi.org/10.1117/1.jmm.21.1.011005

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