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[IEEE] Enhancing 6 nm CD Patterned Defect Classification with TSOM and CNNs

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Once恰拉架 发表于 2026-7-27 21:06:26 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊：2023 34th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC)

文献作者：Ravikiran Attota; Armando Anaya

出版日期：2023-5-1

DOI号：10.1109/asmc57536.2023.10121112

下载链接：https://ieeexplore.ieee.org/stampPDF/getPDF.jsp?arnumber=10121112

文献链接：https://doi.org/10.1109/asmc57536.2023.10121112

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