[Wiley] Plasma atomic layer etching of ruthenium with surface fluorination and ion bombardment

 关闭 求助已关闭
shenli 发表于 2026-7-30 09:17:29 | 显示全部楼层 |阅读模式
悬赏10积分

期刊:Plasma Processes and Polymers

文献作者:Yongjae Kim; Hojin Kang; Heeju Ha; Minsuk Choi; Minsung Jeon; Sung Min Cho; Heeyeop Chae

出版日期:2024-3-

DOI号:10.1002/ppap.202300161

下载链接:https://onlinelibrary.wiley.com/ ... 1002/ppap.202300161

文献链接:https://doi.org/10.1002/ppap.202300161

当前文献来源于 Wiley


备注信息:
全部回复0 显示全部楼层

发表回复

您需要登录后才可以回帖 登录 | 立即注册

本版积分规则

注册会员
  • 发布

  • 回复

  • 积分

    100

返回列表