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[AIP] Study of lithographic parameters for the trilayer resist systems in electron beam lithography

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linbenhui 发表于 2026-7-31 08:33:28 | 显示全部楼层 |阅读模式
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DOI号:10.1063/5.0136258

文献链接:https://pubs.aip.org/aip/acp/art ... rectedFrom=fulltext

文献作者:Robert Andok

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