[SPIE] Sustainable plasma processes for the cleaning of etching reactors

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zhaoshike 发表于 2026-8-3 08:51:16 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊:Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning XV

文献作者:Nina Bernard; Christelle Boixaderas; Aurélien Sarrazin; Mélissa Brihoum; Pascal Gouraud; Cécile Jenny; Thierry Chevolleau; Francois Boulard

出版日期:2026-4-9

DOI号:10.1117/12.3090141

文献链接:https://doi.org/10.1117/12.3090141

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