[其他期刊] Ion energy distributions at rf-biased wafer surfaces

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zhaoshike 发表于 2026-8-3 08:55:18 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films

文献作者:J. R. Woodworth; I. C. Abraham; M. E. Riley; P. A. Miller; T. W. Hamilton; B. P. Aragon; R. J. Shul; C. G. Willison

出版日期:2002-5-1

DOI号:10.1116/1.1472421

下载链接:https://pubs.aip.org/avs/jva/art ... 11/873_1_online.pdf

文献链接:https://doi.org/10.1116/1.1472421

当前文献来源于 American Vacuum Society


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