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[其他期刊] Low voltage and high speed operating electrostatic wafer chuck using sputtered tantalum oxide membrane

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zhaoshike 发表于 2026-8-3 08:57:06 | 显示全部楼层 |阅读模式

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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films

文献作者：Mamoru Nakasuji; Hiroyasu Shimizu; Takaaki Kato

出版日期：1994-9-1

DOI号：10.1116/1.578953

下载链接：https://pubs.aip.org/avs/jva/art ... 2/2834_1_online.pdf

文献链接：https://doi.org/10.1116/1.578953

当前文献来源于 American Vacuum Society。

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