[其他期刊] Process kit and wafer temperature effects on dielectric etch rate and uniformity of electrostatic chuck

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zhaoshike 发表于 2026-8-3 08:57:44 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena

文献作者:Hongching Shan; Bryan Y. Pu; Hua Gao; Kuang-Han Ke; Jenny Lewis; Michael Welch; Chandra Deshpandey

出版日期:1996-1-1

DOI号:10.1116/1.588507

下载链接:https://pubs.aip.org/avs/jvb/art ... 49/521_1_online.pdf

文献链接:https://doi.org/10.1116/1.588507

当前文献来源于 American Vacuum Society


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