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[AIP] Effects of wafer impedance on the monitoring and control of ion energy in plasma reactors

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zhaoshike 发表于 2026-8-3 09:00:12 | 显示全部楼层 |阅读模式
悬赏10积分

期刊：Journal of Applied Physics

文献作者：Mark A. Sobolewski

出版日期：2006-9-15

DOI号：10.1063/1.2353203

下载链接：https://pubs.aip.org/aip/jap/art ... 063310_1_online.pdf

文献链接：https://doi.org/10.1063/1.2353203

当前文献来源于 AIP Publishing。


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