[其他期刊] Plasma enhanced atomic layer deposition of silicon nitride and silicon carbonitride using a single source precursor and different plasmas

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kk医学牲 发表于 2026-8-4 17:20:41 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A

文献作者:Samuel M. Johnson; Jianping Zhao; Tsung-Hsuan Yang; Toshihiko Iwao; Charles Schlechte; John Carroll; Gabriel Blankemeyer; Peter L. G. Ventzek; Joaquin Resasco; Gyeong S. Hwang; John G. Ekerdt

出版日期:2025-5-1

DOI号:10.1116/6.0004510

下载链接:https://pubs.aip.org/avs/jva/art ... 409_1_6.0004510.pdf

文献链接:https://doi.org/10.1116/6.0004510

当前文献来源于 American Vacuum Society


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