[Wiley] Amorphous silicon carbonitride (a㏒iCN) thin film coatings by remote plasma chemical vapor deposition using organosilicon precursor: Effect of substrate temperature

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kk医学牲 发表于 2026-8-4 17:31:39 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊:Plasma Processes and Polymers

文献作者:Aleksander M. Wrobel; Pawel Uznanski

出版日期:2023-4-

DOI号:10.1002/ppap.202200190

下载链接:https://onlinelibrary.wiley.com/ ... 1002/ppap.202200190

文献链接:https://doi.org/10.1002/ppap.202200190

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layla 发表于 2026-8-4 17:31:40 | 显示全部楼层

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