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[IOP] Low-energy ion irradiation effects on chlorine desorption in plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD) for silicon nitride

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kk医学牲 发表于 2026-8-4 17:51:50 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics

文献作者：Tomoko Ito; Hidekazu Kita; Kazuhiro Karahashi; Satoshi Hamaguchi

出版日期：2022-7-1

DOI号：10.35848/1347-4065/ac629b

下载链接：https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/ac629b

文献链接：https://doi.org/10.35848/1347-4065/ac629b

当前文献来源于 IOP Publishing。


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