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[IOP] Control of the photoresist etch uniformity in inductive discharge with magnetic resonance wireless power transfer

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厉害的索尼娅 发表于 2026-8-18 10:41:30 | 显示全部楼层 |阅读模式
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本帖最后由 厉害的索尼娅 于 2026-8-19 10:50 编辑

期刊：Plasma Sources Science and Technology

文献作者：Junyoung Park; Young-Hun Hong; Gil-Ho Kang; Min-Seok Kim; Beom-Jun Seo; Ju-Ho Kim; Chin-Wook Chung

出版日期：2025-2-1

DOI号：10.1088/1361-6595/adb788

下载链接：https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6595/adb788

文献链接：https://doi.org/10.1088/1361-6595/adb788

当前文献来源于 IOP Publishing。


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