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[IOP] Control of the photoresist etch uniformity in inductive discharge with magnetic resonance wireless power transfer

厉害的索尼娅 发表于 3 小时前 | 显示全部楼层 |阅读模式

此帖将于 2026-08-21 10:41 自动关闭

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期刊：Plasma Sources Science and Technology

文献作者：Junyoung Park; Young-Hun Hong; Gil-Ho Kang; Min-Seok Kim; Beom-Jun Seo; Ju-Ho Kim; Chin-Wook Chung

出版日期：2025-2-1

DOI号：10.1088/1361-6595/adb788

下载链接：https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6595/adb788

文献链接：https://doi.org/10.1088/1361-6595/adb788

当前文献来源于 IOP Publishing。

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