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[其他期刊] Quasi-atomic layer etching of silicon nitride

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qcqqq 发表于 2026-8-27 14:20:14 | 显示全部楼层 |阅读模式

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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films

文献作者：Sonam D. Sherpa; Alok Ranjan

出版日期：2017-1-1

DOI号：10.1116/1.4967236

下载链接：https://pubs.aip.org/avs/jva/art ... 01a102_1_online.pdf

文献链接：https://doi.org/10.1116/1.4967236

当前文献来源于 American Vacuum Society。

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