Fabrication and properties of N-doped top layer of Ga2O3 films by magnetron sputtering

发表于 2026-8-28 11:27:58

期刊：Applied Surface Science

文献作者：Ning Zhang; Yongsheng Wang; Zihao Chen; Bin Zhou; Jie Gao; Yanxia Wu; Yong Ma; Hongjun Hei; Shengwang Yu

出版日期：2022-12-

DOI号：10.1016/j.apsusc.2022.154666

下载链接：https://www.sciencedirect.com/sc ... 169433222021973/pdf

文献链接：https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2022.154666

当前文献来源于 Elsevier BV。

备注信息：

发表于 2026-8-28 11:27:59

: 当前求助已完成，请重新发起求助。
已完结状态的附件将会在24小时内删除。

[Elsevier/Sciencedirect] Fabrication and properties of N-doped top layer of Ga2O3 films by magnetron sputtering

已采纳

同分类求助

最新回复

站点公告

今日热心研友

（热心研友QQ群）

[Elsevier/Sciencedirect] Fabrication and properties of N-doped top layer of Ga2O3 films by magnetron sputtering 一键复制