[RSC] Coupling interfacial chemistry and temperature for anisotropy-enhanced sidewall evolution in silicon dioxide wet etching

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aecg 发表于 2026-8-30 20:06:18 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊:Nanoscale

文献作者:Jinmeng Shi; Aixi Pan; Rebecca Mac; Md Fahim Al Fattah; Zbig Wasilewski; Dayan Ban

出版日期:--

DOI号:10.1039/d6nr01509c

下载链接:http://pubs.rsc.org/en/content/articlepdf/2026/NR/D6NR01509C

文献链接:https://doi.org/10.1039/d6nr01509c

当前文献来源于 Royal Society of Chemistry (RSC)。


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aecg 发表于 2026-8-30 20:45:44 | 显示全部楼层

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