[IOP] High reliability CoFeB/MgO/CoFeB magnetic tunnel junction fabrication using low-damage ion beam etching

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shenli 发表于 昨天 10:53 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics

文献作者:Hyeonwoo Park; Akinobu Teramoto; Jun-ichi Tsuchimoto; Keiichi Hashimoto; Tomoyuki Suwa; Marie Hayashi; Rihito Kuroda; Koji Tsunekawa; Shigetoshi Sugawa

出版日期:2020-4-1

DOI号:10.35848/1347-4065/ab6cb5

下载链接:https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/ab6cb5/pdf

文献链接:https://doi.org/10.35848/1347-4065/ab6cb5

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