[其他期刊] Review—Gate Oxide Thin Films Based on Silicon Carbide

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Yizhang001 发表于 2026-9-6 17:04:01 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊:ECS Journal of Solid State Science and Technology

文献作者:Kazeem Olabisi Odesanya; Roslina Ahmad; Andri Andriyana; Sedat Bingol; Yew Hoong Wong

出版日期:2022-8-1

DOI号:10.1149/2162-8777/ac84ff

下载链接:https://iopscience.iop.org/article/10.1149/2162-8777/ac84ff

文献链接:https://doi.org/10.1149/2162-8777/ac84ff

当前文献来源于 The Electrochemical Society。


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