收藏本站 万方检测 维普检测 中文降重 英文语法检测 Turnitin UK版 Turnitin 国际版
登录 注册

文献互助-谷粉互助｜10秒响应文献互助平台

[Elsevier/Sciencedirect] Atomic-level flat polishing of polycrystalline diamond by combining plasma modification and chemical mechanical polishing

 关闭 求助已关闭
170 发表于 2026-9-9 16:27:54 | 显示全部楼层 |阅读模式
悬赏20积分

期刊：CIRP Annals

文献作者：Song Yuan; Chi Fai Cheung; Alborz Shokrani; Zejin Zhan; Chunjin Wang

出版日期：2025--

DOI号：10.1016/j.cirp.2025.03.024

下载链接：https://www.sciencedirect.com/sc ... 007850625000241/pdf

文献链接：https://doi.org/10.1016/j.cirp.2025.03.024

当前文献来源于 Elsevier BV。


备注信息：

已采纳

T-Mac麦蒂 注册会员
2026-9-9（该求助已完结,附件将在上传时间7天后自动删除）
附件内容

查看完整内容

回复

使用道具 捐赠获取积分 应助有误反馈

全部回复2 显示全部楼层
T-Mac麦蒂 发表于 2026-9-9 16:27:55 | 显示全部楼层

当前求助已完成，请重新发起求助。

已完结状态的附件将会在24小时内删除。
回复

使用道具 捐赠获取积分 应助有误反馈

wangdaoyuan 发表于 2026-9-9 16:28:56 | 显示全部楼层

当前求助已完成，请重新发起求助。

已完结状态的附件将会在24小时内删除。
回复

使用道具 捐赠获取积分 应助有误反馈

170 Lv.2
注册会员

  • 发布

  • 回复

  • 积分

    10

同分类求助

最新回复

站点公告

今日热心研友

（热心研友QQ群）


返回列表