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[Elsevier/Sciencedirect] Machine-learning-driven prediction of thin film parameters for optimizing the dielectric deposition in semiconductor fabrication

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deepcalm 发表于 2026-9-10 09:32:41 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊：Integration

文献作者：Hao Wen; Enda Zhao; Qiyue Zhang; Ruofei Xiang; Wenjian Yu

出版日期：2026-3-

DOI号：10.1016/j.vlsi.2025.102617

下载链接：https://www.sciencedirect.com/sc ... 167926025002743/pdf

文献链接：https://doi.org/10.1016/j.vlsi.2025.102617

当前文献来源于 Elsevier BV。


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peter_soso 注册会员
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peter_soso 发表于 2026-9-10 09:32:42 | 显示全部楼层

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