Thin-gate low-pressure chemical vapor deposition oxides

发表于 2026-9-11 10:34:43

期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films

文献作者：Dean W. Freeman

出版日期：1987-7-1

DOI号：10.1116/1.574563

下载链接：https://pubs.aip.org/avs/jva/art ... 5/1554_1_online.pdf

文献链接：https://doi.org/10.1116/1.574563

当前文献来源于 American Vacuum Society。

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