[RSC] Anin situstudy of chemical-mechanical polishing behaviours on sapphire (0001)viasimulating the chemical product-removal process by AFM-tapping mode in both liquid and air environments

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nje2025 发表于 2026-9-16 09:18:50 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊:Nanoscale

文献作者:Xiaolei Shi; Li Xu; Yan Zhou; Chunli Zou; Rongrong Wang; Guoshun Pan

出版日期:--

DOI号:10.1039/c8nr04645j

下载链接:http://pubs.rsc.org/en/content/articlepdf/2018/NR/C8NR04645J

文献链接:https://doi.org/10.1039/c8nr04645j

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weishiqu 发表于 2026-9-16 09:18:51 | 显示全部楼层

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