[Wiley] Electrochemical Construction of Edge〤ontacted Metal㏒emiconductor Junctions with Low Contact Barrier

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ggdodo 发表于 2026-9-29 09:58:56 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊:Advanced Materials

文献作者:Xiaofan Ping; Weigang Liu; Yueyang Wu; Guanchen Xu; Fengen Chen; Guangtao Li; Liying Jiao

出版日期:2022-8-

DOI号:10.1002/adma.202202484

下载链接:https://onlinelibrary.wiley.com/ ... 1002/adma.202202484

文献链接:https://doi.org/10.1002/adma.202202484

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