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[Elsevier/Sciencedirect] A novel room-temperature surface Si3N4 patterned As+ ion implant solution to wafer warpagemodulation in 3D NAND flash fabrication

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EIneal 发表于 4 天前 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing

文献作者：Kun Zhang; Xiaomin Cheng; Xiangshui Miao; Zhiliang Xia

出版日期：2025-6-

DOI号：10.1016/j.mssp.2025.109467

下载链接：https://www.sciencedirect.com/sc ... 369800125002045/pdf

文献链接：https://doi.org/10.1016/j.mssp.2025.109467

当前文献来源于 Elsevier BV。


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peter_soso 注册会员
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peter_soso 发表于 4 天前 | 显示全部楼层

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