[其他期刊] Engineering the Future of EUV Lithography: A Collaborative Journey in Metal-Oxide Resist Innovation

Weina5688 发表于半小时前 | 显示全部楼层 |阅读模式

此帖将于 2026-10-12 09:49 自动关闭

悬赏20积分

期刊：Journal of Photopolymer Science and Technology

文献作者：Danilo De Simone

出版日期：2026-7-31

DOI号：10.2494/photopolymer.39.67

下载链接：https://www.jstage.jst.go.jp/article/photopolymer/39/2/39_67/_pdf

文献链接：https://doi.org/10.2494/photopolymer.39.67

当前文献来源于 Technical Association of Photopolymers, Japan。

备注信息：