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[OSA] Phase defect inspection for a patterned EUV mask based on photoelectron microscopy

jinmu 发表于 5 小时前 | 显示全部楼层 |阅读模式

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期刊：Applied Optics

文献作者：Yanxing Liu; Bochao Li; Weipeng Zhang; Jiawei Li; Hanzhi Zhang; Zhenlong Zhao; Jingquan Lin; Xiaowei Song

出版日期：2026-8-20

DOI号：10.1364/ao.603679

下载链接：https://opg.optica.org/viewmedia.cfm?URI=ao-65-24-8064&seq=0

文献链接：https://doi.org/10.1364/ao.603679

当前文献来源于 Optica Publishing Group。

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