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[其他期刊] On the Use of H2 Plasma for the Cleaning and Passivation of InP Substrates

adamaller 发表于 1 小时前 | 显示全部楼层 |阅读模式
悬赏20积分

期刊：Le Journal de Physique IV

文献作者：G. Bruno; M. Losurdo; P. Capezzuto

出版日期：1995-6-

DOI号：10.1051/jphyscol:1995579

下载链接：http://jp4.journaldephysique.org/10.1051/jphyscol:1995579/pdf

文献链接：https://doi.org/10.1051/jphyscol:1995579

当前文献来源于 EDP Sciences。


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