[RSC] Recent advances in CeO2based abrasives for chemical mechanical polishing

wushaojue 发表于 昨天 17:42 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊:Physical Chemistry Chemical Physics

文献作者:Yongxin Wang; Yunhui Shi; Jiabao Cheng; Yao Xu; Yizhan Wang; Jiawei Qiu

出版日期:--

DOI号:10.1039/d5cp00778j

下载链接:http://pubs.rsc.org/en/content/articlepdf/2025/CP/D5CP00778J

文献链接:https://doi.org/10.1039/d5cp00778j

当前文献来源于 Royal Society of Chemistry (RSC)。


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