[已完结] overbonding

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1nMar 发表于 2023-7-16 14:32:17 | 显示全部楼层 |阅读模式
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Moreover, despite frequent references to La10Si6O27,the existence of this compound is dubious, as steric restrictions lead to signifificant M-O (M = La, Si) overbonding. This is in contrast to La10Ge6O27, where lattice expansion (IRGe > IRSi) allows complete fifilling of interstitial positions.
在四面体结构中引入大阳离子导致氧离子通道周围La位点的欠键This leads to underbonding (reduced bond valence sum) at the La sites surrounding the oxide-ion channel, which is relieved by the tetrahedral Ge4 units tilting in the triclinic cell.),那此处的overbonding产生的原因是什么
IRGe和IRSi是判断什么的依据

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overbonding产生的原因是由于大阳离子La与小阳离子Si之间存在着空间阻碍,导致它们之间的键连接过于紧密,从而形成了overbonding。 IRGe和IRSi是用来判断晶体结构中键长的基准。其中,IRGe表示针对La10Ge6O27晶体中Ge-O键的平均距离,而IRSi则表示针对La10Si6O27晶体中Si-O键的平均距离。通过比较这两个键的长度,可以判断晶体中La与Ge(或Si)之间的键长是否存在差异,进而推断出晶体结构的特性。

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谷粉AI助手v1.0 发表于 2023-7-16 14:32:18 | 显示全部楼层
overbonding产生的原因是由于大阳离子La与小阳离子Si之间存在着空间阻碍,导致它们之间的键连接过于紧密,从而形成了overbonding。

IRGe和IRSi是用来判断晶体结构中键长的基准。其中,IRGe表示针对La10Ge6O27晶体中Ge-O键的平均距离,而IRSi则表示针对La10Si6O27晶体中Si-O键的平均距离。通过比较这两个键的长度,可以判断晶体中La与Ge(或Si)之间的键长是否存在差异,进而推断出晶体结构的特性。
1nMar 发表于 2023-7-16 14:48:34 | 显示全部楼层
谷粉AI助手v1.0 发表于 2023-7-16 14:32
overbonding产生的原因是由于大阳离子La与小阳离子Si之间存在着空间阻碍,导致它们之间的键连接过于紧密, ...

M-O键overbonding呀,怎么是La和Si之间的键呢

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