[Elsevier/Sciencedirect] Analysis of phase shift effects on metal etching profiles in RF-biased ICP reactors

ChenHN 发表于 1 小时前 | 显示全部楼层 |阅读模式
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期刊:Vacuum

文献作者:Paul Yang; Wan Soo Song; Karam Ahn; Chiyoung Lee; Byoungwook Oh; Beomseok Kim; Yoon Young Lee; Jin Cheol Son

出版日期:2025-3-

DOI号:10.1016/j.vacuum.2025.114032

下载链接:https://www.sciencedirect.com/sc ... 042207X25000223/pdf

文献链接:https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2025.114032

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梦之泪伤a 发表于 1 小时前 | 显示全部楼层

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