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[SPIE] Simulation analysis of thermally induced deformation on reticle for deep ultraviolet lithography

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zjbxxx 发表于 4 天前 | 显示全部楼层 |阅读模式

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期刊：Fourteenth International Conference on Information Optics and Photonics (CIOP 2023)

文献作者：Yisha Cao; Yunjun Lu; Peng Feng; Rong Su; Xiangzhao Wang

出版日期：2023-11-24

DOI号：10.1117/12.3008409

文献链接：https://doi.org/10.1117/12.3008409

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